低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機

產品型號： GMD2000

所屬分類：研磨分散機

更新時間：2025-12-10

簡要描述：低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

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一、產品關鍵詞

低酒精魔芋粉研磨機，魔芋粉濕法研磨機，低酒精濃度濕法研磨機，立式濕法研磨分散機，德國不銹鋼研磨機

二、低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機

低酒精濃度濕法加工魔芋精粉的方法B、將魔芋切分護色；-10℃～5%～5%～D、干燥處理。該方法是在溫度為0℃的環境下對魔芋進行粉碎、研磨與分離處理，這樣只需使用濃度為15%的酒精即可防止精粉粒子發生過度溶脹或形成溶膠，其加工成本大大降低。適合在食品加工領域推廣應用。

所謂濕法加工魔芋精粉，是指在加工精粉的過程中采用保護性溶劑浸潰保護加工，使精粉不膨化、不褐變，經粉碎、研磨、分離、干燥等工序制取濕法精粉全過程的方法。濕法加工采用的保護性溶液包括有機溶劑保護液和無機溶劑保護液，有機溶劑保護液主要指以食用酒精作為控溶劑為主配兌的保護液，無機溶劑保護液主要指以四硼酸鈉)為主配兌的保護液，前者保護液成本較高，但精粉質量好，精粉產品用于醫藥、食品等各行業，后者保護液成本低，但加工的精粉不能食用，僅能作為工業用精粉。

三、研磨分散機的工藝

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

四、研磨分散機的結構

GMD2000研磨分散機為立式分體結構，有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

五、研磨分散機的特點

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

六、從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。

七、GMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%。